提高半导体光催化性能的方法

半导体与光催化

常温下导电性能介于导体(conductor)与绝缘体(insulator)之间的材料，叫做半导体（semiconductor）． 什么是光催化？ 光触媒[PHOTOCATALYSIS]是光 [Photo=Light] + 触媒(催化剂)[catalyst]的合成词。光触媒是一种在光的照射下，自身不起变化，却可以促进化学反应的物质，光触媒是利用自然界存在的光能转换成为化学反应所需的能量，来产生催化作用，使周围之氧气及水分子激发成极具氧化力的自由负离子。几乎可分解所有对人体和环境有害的有机物质及部分无机物质，不仅能加速反应，亦能运用自然界的定侓，不造成资源浪费与附加污染形成。最具代表性的例子为植

光催化剂合成的时候没效果，最可能的原因是什么

光催化材料是由CeO2（70%-90%） ZrO2（30%-10%）组成，形成ZrO2稳定CeO2的均匀复合物，外观呈浅黄色，具有纳米层状结构，在 1000℃ 经4小时老化后，比表面仍较大（>15M# G），因此高温下也能保持较高的活性。 用途:适用于高温催化材料,如汽车尾气催化剂 技术背景——能源危机和环境问题 人类目前使用的主要能源有石油、天然气和煤炭三种。根据国际能源机构的统计，地球上这三种能源能供人类开采的年限，分别只有40年、50年和240年。值得注意的是，中国剩余可开采储蓄仅为1390亿吨标准煤，按照中国2003年的开采速度16.67亿吨/年，仅能维持83年。中国石油资源不足，天

可以通过哪些途径提高光催化剂的催化性能

以TiO2为光催化剂破坏有机污染物是常用的方法，但采用POM光催化降解水中有...近年来，各国化学家和材料科学家们正在探讨固载POM以及提高其表面积的途径。...

光催化活性与禁带宽度成正比吗？？

1. 半导体光催化活性与带隙宽度有一定关系，但是不是成正比。

2. 有些光催化剂是通过掺杂而增大带隙，也有的是通过掺杂而使带隙变窄，但光催化活性提高了。一般是通过掺杂使光催化剂的吸收边向长波方向移动，会增大光吸收率，从而提高光催化活性。总之，提高光催化活性是真正目的，改变其带隙只是方法。

3. “导带电位变得更负，而价带电位变得更正，使光生电子和空穴具有更强的氧化还原能力
   ”这句话感觉说的有点牵强，因为不是所有的都如此。

   以上是个人的理解，供参考。

半导体光催化剂的催化原理及其研究现状是什么啊？

基本的原理是这样，光能够激发半导体中的电子，将电子从价带激发到导带生成光生电子，而价带中产生对应的光生空穴，电子和空穴分别扩散到半导体表面，在表面与不同的反应对象进行反应。光生电子具有还原性，空穴具有氧化性，这两种应能可以分别应用在不同的领域。 比如杀菌、降解有机物利用的是氧化性，光分解水制氢气、光合成等利用的是还原性。 这就是最最基本的光催化原理 目前的研究现状是很难描述的，因为有很多的研究领域，就算是领域的大牛，也只能描述自己领域的基本情况。 自清洁现在已经基本可以实现工业化了，光降解和杀菌都是比较容易研究的课题，已经比较成熟。现在比较困难，在一段时间还无法离开实验室的是光解水制氢。光合成